掩膜版
公司拥有从瑞典引进的大型高精度激光绘图仪Micronic LRS 1100-30S、精密光学测量仪和一支有着十余年丰富从业经验的设计制造团队，具备为客户提供质量优异的大尺寸、超高精度干版掩模版的能力。产品主要用于PDP行业、中、低精度的LCD行业, 高密度PCB行业，IC 载板和IC封装等行业。以下为我司所制造的干版掩模版的关键技术指标以及进口的干版材料的详细说明：
1.技术指标 Specifications
最小缝宽/线宽Min.Line Width/Spaced Width
3μm /3μm
总长精度long Dimension Accuracy
±1.0μm
图形位置精度Pattern Positioning Accuracy
±0.6μm
套合精度Overlay Accurary
0.6μm (3δ)
垂直精度Rectangularity
1.0μrad
线条精度Dimension Accuracy Of Line
±0.5μm
缝宽精度Uniformity Of Space Width
≤0.5μm
2.干版材料Substrate
材料Material
Sodalime Glass
最大尺寸Max Size
43"X43"
常规版材尺寸Normal Size
32"X24", 43"X32"
厚度Thickness
4.8mm
药膜Film Type
Emulsion
光学密度Optical（λ=450mm）
4.0
